为40到7纳米芯片制造提供创新的刻蚀解决方案
双反应台腔体设计具有更高的产出效率
双低频功率切换系统,用于制程分步骤优化
脉冲射频系统选项
多区气体分配调节系统
静电吸盘双区冷却装置
低金属污染工艺组件选项
每一步骤可独立进行控温的四区动态静电吸盘 (Primo AD-RIE-e)
拥有自主知识产权涂层技术的抗腐蚀反应腔 (Primo AD-RIE-cr)
一体整合的除胶能力及表面电荷减除能力 (Primo iDEA®系统)
双低频率分步骤切换系统,以适用于更广的制程范围(特别是Trench/Via All-in-one制程)
优异的工艺可调性和稳定性,以满足先进工艺标准
高生产效率,低生产成本(CoO)
扩展机型Primo AD-RIE-e, Primo AD-RIE-cr 和 Primo iDEA®,可应用于不同特殊制程